Saphir 250 M2雙盤手動研磨拋光機
1.照明屏幕的開/關按鈕和有刻度的旋鈕可實現直觀的操作。
2.清潔循環功能(Cleaning Boost)有助於在準備過程結束後3秒鐘內以750 rpm的速度乾燥拋光和拋光介質,然後關閉設備。
3.雙盤研磨拋光機,具有研磨及拋光兩種功能
4.磁性拋光系統,可以快速更換拋光盤
5.具有Spin Cycle功能,可以快速清潔研磨盤面
6.盤面可以順時針或逆時針旋轉
7.最新設計的研磨盤,單點固定盤面,方便固定及取下
8.最新設計防濺環,耐撞擊效果佳
9.鋁合金外殼,粉體烤漆
盤面尺寸 |
Ø 200/250 mm |
盤面轉速 |
30 - 600 rpm, 連續式可調 |
寬 x 高 x 深 |
901 x 265 x 710 mm |
進水源 |
1x fresh water connection R½" max. 6 bars |
自動滴液系統 (選配) |
Topas M |