微影成像術(Photolithography)？

IC製程中的微影成像術(Photolithography)是將為數眾多之電子零件及線路，一層一層地轉換到一個微小的晶方(chip)上，每一層均有一片光罩，靠著光學成像原理，光線經過光罩，透鏡而成像到晶片表面上，晶片表面必須有如照相底片般之物質存在，屬於可感光之膠質化合物(光阻)，經與光線作用和化學作用處理後，即可將光罩上的圖形一五一十的轉換到晶片上，因此在微影成像製程上，光罩、光阻、光阻塗佈顯影設備及對準曝光光學系統等皆為必備之條件。