光阻劑(Photoresist)?

光阻劑(Photoresist)是一種能量敏感物質，以適當能量，如光子、電子、離子、輻射、介穩粒子(Metastable Particle)等照射後，引起化學反應，使已照射區在顯影液中溶解度與未照射區呈明顯差異。光阻劑的主要功能為在微影成像過程中將光罩上的圖形轉移至晶片上，當作蝕刻或離子植入時的保護層。